（半導體電子廠(chǎng)加濕器，半導體電子廠(chǎng)加濕設備）

　　半導體電子廠(chǎng)加濕器，半導體電子廠(chǎng)加濕設備新聞資訊：半導體（semiconductor），顧名思義是介于導體和絕緣體之間，用來(lái)做控制導電的一種材料，現如今在很多的數碼產(chǎn)品或電子設備中，像電腦、手機、電視機、收音機等，這些都是需要用到半導體元器件或產(chǎn)品的；由此可見(jiàn)，半導體產(chǎn)品在當今數碼產(chǎn)品或電子設備中占有非常重要的作用。

　　隨著(zhù)半導體生產(chǎn)工藝的不斷發(fā)展，更精密、集成度更高是行業(yè)發(fā)展的趨勢。因此，其制造工藝除了需要機械設備本身的工藝水平達到生產(chǎn)要求以外，其所處的生產(chǎn)環(huán)境--無(wú)塵車(chē)間的各項指標也必須被嚴格地控制，這其中包括了：潔凈度、溫濕度、照度、氣流方向、振動(dòng)靜電、磁場(chǎng)以及有害氣體等各個(gè)方面。

　　其中，車(chē)間環(huán)境的溫濕度控制是一個(gè)重點(diǎn)，其控制的效果直接影響著(zhù)生產(chǎn)效率和半導體產(chǎn)品的優(yōu)良率。目前，半導體無(wú)塵車(chē)間對環(huán)境溫濕度的控制范圍通常為：溫度22+/-2℃，濕度45+/-5%RH之間。有別于其他的恒溫恒濕環(huán)境系統的要求，由于半導體電子產(chǎn)品對靜電、粉塵等的敏感性對其品質(zhì)的影響；

　　不管是什么半導體電子廠(chǎng)在制作各種半導體元器件或產(chǎn)品的過(guò)程中，其生產(chǎn)車(chē)間內必定是放了很多的的半導體元器件，在這些存放半導體元器件的環(huán)境里面，通常都會(huì )比較干燥，在一個(gè)干燥的環(huán)境下是極易導致靜電增強、粉塵增多等問(wèn)題，這些對與半導體電子廠(chǎng)的正常生產(chǎn)和產(chǎn)品品質(zhì)都是非常不利的，而且此時(shí)車(chē)間內的工作人員也會(huì )感到皮膚干燥、開(kāi)裂、呼吸不適和情緒不適，這將影響他們的工作，特別是在冬季干燥的季節是經(jīng)常會(huì )出現的。

　　為此，半導體電子廠(chǎng)一般在這種情況之下都是需要加濕的，加濕的作用主要是除靜電，加濕器則是一個(gè)很好的加濕除靜電設備；大部分電子廠(chǎng)加濕都是用超聲波加濕器，也可以用高壓微霧加濕器，也可以用電極加濕器；但半導體電子廠(chǎng)一般都是無(wú)塵車(chē)間，推薦使用無(wú)霧型潔凈濕膜加濕器來(lái)進(jìn)行潔凈加濕；避免靜電的產(chǎn)生，就可以很好的避免對半導體產(chǎn)生帶來(lái)不利的影響，也可以避免因為靜電導致半導體的性能出現任何的小問(wèn)題。

　　安詩(shī)曼QS-9半導體電子廠(chǎng)加濕器＆QS系列潔凈濕膜加濕器是利用水的蒸發(fā)性，將水通過(guò)水泵和分配器不斷送到濕膜上部，在重力作用下水通過(guò)濕膜回到主水箱形成循環(huán)，空氣通過(guò)濕膜時(shí)，與濕膜充分接觸，過(guò)濾塵埃等顆粒物，使空氣凈化，濕度增加，從而達到加濕，凈化，除塵的目的，一般的場(chǎng)所下都適合使用。

　　安詩(shī)曼QS-9半導體電子廠(chǎng)加濕器＆QS系列潔凈濕膜加濕器是各種對濕度、潔凈度等有較高要求場(chǎng)所加濕的不二之選，廣泛用于：電話(huà)通訊程控、交換、傳輸機房、計算機房、印刷制版車(chē)間、電子生產(chǎn)車(chē)間、精密機械加工車(chē)產(chǎn)間、精密儀器儀表室、會(huì )議室、檔案館、美術(shù)館、圖書(shū)館、別墅區。

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　　安詩(shī)曼QS-9半導體電子廠(chǎng)加濕器＆QS系列潔凈濕膜加濕器技術(shù)參數：

　　名稱(chēng)

　　加濕量

　　換風(fēng)量

　　適用空間

　　電源電壓

　　噪音

　　輸入功率

　　霧粒直徑

　　凈重

　　外型尺寸

　　型號

　　Kg/h

　　M3/h

　　M3

　　V/Hz

　　DB

　　W

　　μm

　　Kg

　　CM

　　QS-3

　　≥3

　　1000

　　150

　　220/50

　　30

　　130

　　≤5

　　25

　　60×40×118

　　QS-6

　　≥6

　　1300

　　300

　　220/50

　　35

　　220

　　≤5

　　30

　　60×40×120

　　QS-9

　　≥9

　　2400

　　450

　　220/50

　　40

　　350

　　≤5

　　36

　　78×35×172

　　QS-12

　　≥12

　　3500

　　600

　　220/50

　　60

　　450

　　≤5

　　47

　　78×36×174

　　QS-15

　　≥15

　　3500

　　800

　　220/50

　　60

　　580

　　≤5

　　56

　　120×50×180

　　◎計算公式：H=體積×P×溫度系數×（X2－X1）÷1000×換氣次數×損耗系數公式說(shuō)明：H-所需加濕量（kg/h）、P-空氣密度（kg/m3）=1.2、V-體積（加濕場(chǎng)所面積×高度）、1000-g換算為Kg、損耗系數-1.2（包括人員，環(huán)境的密閉效果和材料等因素）、換氣次數-通常為2-3次、溫度數系-1.2（冬天往上加，夏天就按照1.2或往下減）、X2-X1-每立方米空氣的水分重量即絕對濕度（X2為加濕后，X1為加濕前）；

　　◎濕膜加濕器的加濕量主要取決于濕膜的截面積，風(fēng)量的大小。其次要和房間內的溫度有關(guān)，水質(zhì)的好壞，房間內服務(wù)器散發(fā)的熱量等等的客觀(guān)因素有關(guān)。判斷濕膜加濕機的加濕量大小，可以通過(guò)每小時(shí)加濕水的重量來(lái)判斷。查看更多半導體電子廠(chǎng)加濕器，半導體電子廠(chǎng)加濕設備的詳細信息盡在：安詩(shī)曼除濕機

　　綜上所述：在半導體器件生產(chǎn)車(chē)間，由于塵埃吸附在芯片上，尤其是超大規模集成電路的成品率會(huì )大大下降。生產(chǎn)車(chē)間操作人員都穿潔凈工作服，若人體帶靜電，則極易吸附塵埃、污物等，若這些塵埃、污物被帶到操作現場(chǎng)的話(huà)，將影響產(chǎn)品質(zhì)量，惡化產(chǎn)品性能、大大降低成品率。如果吸附的灰塵粒子的半徑大于線(xiàn)條寬度約時(shí)，薄膜厚度在下時(shí)，則最容易使半導體元器件或產(chǎn)品報廢。

　　為此，ESD也是半導體制造環(huán)境控制的一項重要內容，靜電釋放可能對產(chǎn)品和生產(chǎn)設備造成損害，還可能引起硅片表面塵粒吸附，影響產(chǎn)品的良率。靜電消除要在潔凈室設計上進(jìn)行總體考慮，除了設備接地(包括潔凈墻板和高架地板，辦公設備等)外，還要采用防靜電墻板、高架地板，人員要求穿著(zhù)防靜電的潔凈服、潔凈鞋。對存在ESD危害風(fēng)險的設備和生產(chǎn)區域應安裝加濕器來(lái)進(jìn)行加濕。

　　半導體電子廠(chǎng)要想在一年四季不同氣候條下都能夠正常生產(chǎn)和保證產(chǎn)品品質(zhì)的穩定，其生產(chǎn)車(chē)間內部就必須維持一個(gè)穩定的環(huán)境，特別是要對車(chē)間生產(chǎn)環(huán)境中的溫度、濕度、空氣潔凈度、氣流組織，壓力平衡等多個(gè)參數進(jìn)行嚴格的控制。在濕度方面，選用安詩(shī)曼加濕器來(lái)進(jìn)行有效調節的好處不僅僅表現在預防和消除靜電這個(gè)方面，還在降塵和除塵方面有著(zhù)非常不錯的表現。以上關(guān)于半導體電子廠(chǎng)加濕器，半導體電子廠(chǎng)加濕設備的全部新聞資訊報道是安詩(shī)曼提供的，僅供大家參考！